3月1日，据国家知识产权局公告，北京大学申请一项名为“单壁碳纳米管水平阵列及其制备方法”，公开号CN117623282A，申请日期为2022年8月。

专利摘要显示，本发明公开一种单壁碳纳米管水平阵列及其制备方法。其制备方法，包括：S1，对单晶蓝宝石基底表面进行重构；S2，通过离子注入将催化剂前体注入经过重构的单晶蓝宝石基底；及S3，将经过离子注入后的基底放置于竖直喷淋化学气相沉积设备中，使其垂直于竖直喷淋的气流进行气相沉积生长单壁碳纳米管。本发明的单壁碳纳米管水平阵列的生长面积可达一英寸，密度最高可达140根/微米，且表现出超高质量。该制备方法结合了激光划刻技术、离子注入技术以及竖直喷淋设备，实现了蓝宝石单晶基底的表面重构、其上催化剂分布以及气流与基底作用模式的同步优化，从而显著提升了单壁碳纳米管水平阵列的生长尺寸、密度和均匀性，且该方法具有可控、稳定、易放大等特点。

信息来源：Carbontech